柔性OLED器件的制备工艺


提要: 本实验采用覆有ITO导电膜的PET柔性基片,面电阻约170Ω/□。PET 在较宽的温度范围内具有优良的物理-机械性能,长期使用温度可达120℃。基片厚度为125μm,方块电阻约为170Ω/□,对可见光的透过率大于80%。 

 

1)衬底的处理

本实验采用覆有ITO导电膜的PET柔性基片,面电阻约170Ω/□。PET 在较宽的温度范围内具有优良的物理-机械性能,长期使用温度可达120℃。基片厚度为125μm,方块电阻约为170Ω/□,对可见光的透过率大于80%。制作器件前先在ITO 薄膜覆盖的PET柔性基片上用透明胶带对基片进行掩膜,以锌粉覆盖整个基片,用稀盐酸进行腐蚀,最后揭去胶带进行清洗。再将刻蚀好的ITO柔性基片放在有洗涤剂的去离子水中超声清洗(所用超声波清洗器为KQ218 型),再用大量去离子水冲洗干净,然后用酒精棉球反复擦洗基片,接着再分别用乙醇、异丙醇进行超声清洗。最后在红外干燥箱(HW801型)中烘干后备用。目前人们在研究中常用的PET 基片与ITO热膨胀性质相反。这种热性质的差异使得ITO容易发生剥离。所以在对柔性衬底进行超声清洗的过程中时间不能太长,以免影响ITO与PET之间的附着力。

 

2)配置溶液

对于小分子材料,制备方法是采用真空蒸镀的方法成膜,而对于聚合物材料,其本身可溶于有机溶剂,制成溶液,旋涂于基片表面形成发光层。根据所制备器件的具体要求和所选择的材料,通过计算各种成分的用量,最终按照各材料的比例,合理地配置溶液,然后将配好的溶液放入超声波仪器中振荡,使溶液充分溶解、均匀。

 

3)有机层成膜

实验中,对于小分子材料大多采用真空蒸发镀膜的方法,其蒸发沉积条件为:真空度小于1×10-4Pa,蒸发电流约为6A,蒸发时间则根据材料而异。对于聚合物材料,成膜方法比较多,主要有浸取、旋涂、喷涂以及丝网印刷。将所配置好的有机溶液滴加到清洗烘干好的ITO 基片上,用台式匀胶机(KW-4A型)旋甩出均匀致密的薄膜。实验中匀胶机的旋甩速度和时间可设定在以下范围内:低速为500-2000r/min,时间为6-18s;高速为2000-6000r/min,时间为30-60s。甩膜完成后,将器件放入干燥器内,充分干燥以备蒸镀阴极之用。

 

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来源:中华液晶网



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